設備採用掃描式單色X光源(Al Kα)，X-ray 射線小於5 μm，並搭載180°半球能量分析儀，提供高精度化學鍵結分析。此外，具備角度解析功能與迴旋式縱深分析功能，可進行更精確的材料表徵。

一、紫外光電子能譜：可測量價帶（VB）、HOMO、功函數（ɸ）、游離能（IP）。
二、低能量反向光電子能譜：可獲取導帶（CB）、LUMO、電子親和力（EA）。結合紫外光電子能譜(UPS)與低能量反向光電子能譜(LEIPS)，即可解析材料的能帶結構（band gap）。
三、離子槍：配備氬離子槍，可進行表面清潔與有機物縱深分析。
四、溫控載台：樣品可在真空分析室內進行溫控，範圍 -100°C 至 +300°C。
五、電荷中和系統：低能量電子束與離子束雙槍系統，可中和樣品表面的電荷累積。

廠牌/型號：ULVAC-PHI / Genesis
 

一、化學鍵結分析
二、縱深化學鍵結分析(Depth profile)
三、紫外光電子能譜(UPS)
四、低能量反向光電子能譜(LEIPS)

樣品規格：
1.面積小於等於2cm*2cm。
2.厚度小於等於5mm。
3.樣品不得具有磁性、毒性、輻射性。
4.縱深化學鍵結分析(Depth profile)以不超過1um為原則。
5.測試樣品一律請用戶自行封裝處理。
 

學術界

非學術界