量子晶片製程研發平台

設施簡介
量子晶片製程技術是實現量子電腦硬體架構的核心關鍵,有助於推進具高相干性、高可擴展性及高製程再現性的量子處理器開發。「量子晶片製程研發平台」(Quantum Chip Fabrication Space, QC-Fab)專注於超導量子元件製造技術的創新,致力於建立量子電腦晶片的在地研發與小量產測試能力,並成為量子科技跨領域合作的關鍵基地。
QC-Fab 的核心使命是推動超導量子元件製造技術邁向國際領先水準,平台策略性地採購具備先進製程能力的全自動八吋晶圓製造設備,建構可與半導體業界接軌的高規格製程環境。主要設施包含:曝光直寫系統(DWL)、超導金屬與氧化物薄膜濺鍍系統、乾式/濕式蝕刻系統、光學/電子顯微鏡、自動電性量測探針台等,支持從材料沉積、圖形化製程到量測與封裝的全製程研發流程。
平台採用標準化的 8 吋晶圓全自動製程,具備製程穩定性與結果重現性,能有效支援大面積晶圓的製作與量測驗證。技術服務由專業工程團隊執行,並以合作與開放的精神,提供國內外產學研界製程支援。平台服務項目包括:超導金屬與介電層薄膜沉積、電路圖形化與蝕刻、約瑟夫森接面製作,以及完整量子位元晶片製造,可搭配「量子計算測試平台」進行垂直整合驗證,支援從設計、製造到測試的一體化發展。
透過設備能量、製程技術與合作平台的整合,QC-Fab 致力於打造具國際競爭力的量子硬體研發生態系,為未來世界級的超導量子電腦研究奠定堅實基礎。
平台之服務性質為製程委託開發與執行,內容將依時程陸續開放包含:
1. 超導金屬與介電層薄膜成長
2. 薄膜圖形化與元件電路圖形曝光蝕刻
3. 超導約瑟夫森接面製作(包含氧化層形成與接面定義流程)
4. 完整量子位元晶片製造(包括整合製程與晶片後段封裝前製程)
QC-Fab 的核心使命是推動超導量子元件製造技術邁向國際領先水準,平台策略性地採購具備先進製程能力的全自動八吋晶圓製造設備,建構可與半導體業界接軌的高規格製程環境。主要設施包含:曝光直寫系統(DWL)、超導金屬與氧化物薄膜濺鍍系統、乾式/濕式蝕刻系統、光學/電子顯微鏡、自動電性量測探針台等,支持從材料沉積、圖形化製程到量測與封裝的全製程研發流程。
平台採用標準化的 8 吋晶圓全自動製程,具備製程穩定性與結果重現性,能有效支援大面積晶圓的製作與量測驗證。技術服務由專業工程團隊執行,並以合作與開放的精神,提供國內外產學研界製程支援。平台服務項目包括:超導金屬與介電層薄膜沉積、電路圖形化與蝕刻、約瑟夫森接面製作,以及完整量子位元晶片製造,可搭配「量子計算測試平台」進行垂直整合驗證,支援從設計、製造到測試的一體化發展。
透過設備能量、製程技術與合作平台的整合,QC-Fab 致力於打造具國際競爭力的量子硬體研發生態系,為未來世界級的超導量子電腦研究奠定堅實基礎。
平台之服務性質為製程委託開發與執行,內容將依時程陸續開放包含:
1. 超導金屬與介電層薄膜成長
2. 薄膜圖形化與元件電路圖形曝光蝕刻
3. 超導約瑟夫森接面製作(包含氧化層形成與接面定義流程)
4. 完整量子位元晶片製造(包括整合製程與晶片後段封裝前製程)
使用規則
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