德國海德堡μMLA桌上型無光罩曝光對準模組可以應用於各種領域，比如小尺寸光罩製作、微光學和微透鏡陣列、傳感器、MEMS技術、以及接觸二維材料和fan-out電極等。它在研發和創新領域中扮演著重要角色。µMLA具有多種曝光模式，包括快速提供優質圖像的掃描曝光模式，以及用於平滑曲線的矢量掃描模式。它還提供三種光學設置，可以根據需要調整解析度和速度來優化曝光效果。此外，µMLA還具有簡單易用的繪製模式，可以即時修改現有結構，並實現與奈米線或二維材料的電接觸。灰度曝光模式(Grayscale mode)則允許創建複雜的結構，如微光學裝置。在許多應用中，傳統的光罩曝光已不敷使用，無光罩微影可將我們的設計檔案透過二維空間光調製器 (SLM) 直接曝光到塗有光阻劑的晶圓上。本院配備了µMLA系統是一款先進的桌上型微影技術，適合微結構的研究和開發工作。

本微影系統具備高解析度及靈活性，使用365 nm LED光源，支援光柵及向量掃描模式。可在90分鐘內完成4英寸晶圓的曝光速度，並支援高達128級灰度曝光。最小有效曝光結構尺寸為0.6 μm，曝光區域最大150 x 150 mm²，基板尺寸介於5 x 5 mm²至6英寸間。