桌上型無光罩雷射曝光系統
德國海德堡μMLA桌上型無光罩曝光對準模組可以應用於各種領域，比如小尺寸光罩製作、微光學和微透鏡陣列、傳感器、MEMS技術、以及接觸二維材料和fan-out電極等。它在研發和創新領域中扮演著重要角色。µMLA具有多種曝光模式，包括快速提供優質圖像的掃描曝光模式，以及用於平滑曲線的矢量掃描模式。它還提供三種光學設置，可以根據需要調整解析度和速度來優化曝光效果。此外，µMLA還具有簡單易用的繪製模式，可以即時修改現有結構，並實現與奈米線或二維材料的電接觸。灰度曝光模式(Grayscale mode)則允許創建複雜的結構，如微光學裝置。在許多應用中，傳統的光罩曝光已不敷使用，無光罩微影可將我們的設計檔案透過二維空間光調製器 (SLM) 直接曝光到塗有光阻劑的晶圓上。本院配備了µMLA系統是一款先進的桌上型微影技術，適合微結構的研究和開發工作。
廠牌/型號：Heidelberg Instruments / uMLA
本微影系統具備高解析度及靈活性，使用365 nm LED光源，支援光柵及向量掃描模式。可在90分鐘內完成4英寸晶圓的曝光速度，並支援高達128級灰度曝光。最小有效曝光結構尺寸為0.6 μm，曝光區域最大150 x 150 mm²，基板尺寸介於5 x 5 mm²至6英寸間。
學術界
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儀器名稱 |
自行操作 |
專人操作 |
課程費 |
認證費 |
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桌上型無光罩雷射曝光系統 |
350 TWD/HR |
1050 TWD/HR |
500 TWD/TIMES (需參與課程3次 Must attend the course 3 times.) |
1000 TWD/TIMES |
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μMLA 細項 μMLA item |
旋轉塗佈機(含光阻) Spin coater (including photoresist) |
250 TWD/PIECE |
500 TWD/ PIECE |
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圖形繪製 Graphic drawing (K-layout、AutoCAD) |
自行繪圖不收費 Free for self-drawn |
無提供服務 Service not provided |
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非學術界
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儀器名稱 |
自行操作 |
專人操作 |
課程費 |
認證費 |
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桌上型無光罩雷射曝光系統 |
700 TWD/HR |
2100 TWD/HR |
500 TWD/TIMES (需參與課程3次 Must attend the course 3 times.) |
1000 TWD/TIMES |
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μMLA 細項 μMLA item |
旋轉塗佈機(含光阻) Spin coater (including photoresist) |
500 TWD/PIECE |
1000 TWD/ PIECE |
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圖形繪製Graphic drawing (K-layout、AutoCAD) |
自行繪圖不收費 Free for self-drawn |
無提供服務 Service not provided |
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